发布网友 发布时间:2024-10-03 12:06
共1个回答
热心网友 时间:2024-10-03 12:08
硅在半导体材料制作中不可或缺,其中单晶硅与多晶硅是两种常见的硅材料。单晶硅和多晶硅在物理性质、外观及生产工艺上具有显著区别。
单晶硅以硅原子的金刚石晶格排列形成,其晶粒在凝固过程中保持晶面取向一致,具有较高的导电性和一致性,主要用于半导体材料和太阳能光伏发电等。而多晶硅则是单晶硅的一种变体,在凝固过程中形成多个不同取向的晶粒,物理性质不如单晶硅明显,但多晶硅可作为拉制单晶硅的原料。
在外观上,单晶硅的四个角呈现圆弧状,表面光滑,而多晶硅的四个角呈现方角,表面有类似冰花的花纹。
单晶硅的制作流程包括:石英砂经过冶金级硅处理,提纯和精炼,沉积多晶硅锭,然后形成单晶硅,最后进行硅片切割。而多晶硅的生产包括将硅砂加热熔化,然后通过酸洗、烘干、无尘检验和包装等步骤。
在生产工艺方面,多晶硅的生产通过将硅砂加热熔化,然后通过酸洗和烘干等步骤进行处理。接着,将多晶硅放入拉晶炉中加热熔化,然后通过提拉方式形成单晶棒。最后,将单晶棒切割成正方形片材。
多晶硅薄膜在MOS晶体管栅极、互连、电阻器及欧姆接触中广泛应用。在作为栅电极时,可通过在上面沉积金属或金属硅化物以增强导电性。多晶硅薄膜可通过硅烷热分解或热沉积形成,其电气特性取决于掺杂,较重的掺杂导致较低的电阻率。多晶硅的掺杂方法包括扩散、离子注入和原位掺杂。