（12）发明专利申请
（21）申请号 CN202010254973.3 （22）申请日 2020.04.02 （71）申请人 上海大学
地址 200444 上海市宝山区上大路99号
（10）申请公布号 CN111575652A
（43）申请公布日 2020.08.25
（72）发明人 陈益钢;程竞经
（74）专利代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙)
代理人 顾勇华
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
真空镀膜设备及真空镀膜方法
（57）摘要
本发明公开了一种真空镀膜设备及真空镀
膜方法，真空镀膜设备包括镀膜真空室、蒸发源、样品台、加热源、抽气系统，还设置一个与镀膜真空室连通的小真空室，通过利用压力差提高镀膜分子或原子动能，从而提高薄膜机械性能。真空镀膜方法包括清洗基底、放置基板、装入制备材料、抽真空镀膜、退火步骤。本发明利用两个相连的真空室之间的压力差提供给镀膜分子额外的定向动能，必要时还可以利用射频电源
与偏压电源的组合来辅助沉积。提供了一种通过附加定向分子或原子动能来提高薄膜的硬度来优化真空薄膜的机械性能的新方法，这一发明有望为提高真空薄膜力学性能提供新的途径。本发明制备方法简便，易于操作，成本低，适合推广应用。
法律状态
法律状态公告日2020-08-25
法律状态信息
公开
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权利要求说明书
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说明书
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